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无尘无氧烤箱对光刻胶HMDS处理的重要性

在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。将HMDS涂到晶片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物,是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。无尘烤箱降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。

无尘无氧烤箱产品特点:

1、强制送风循环方式,双风道循环结构,温度场分布均匀,智能P.I.D温控系统,从而得到高精度温度控制。

2、箱内风道设有洁净进风口和高效过滤器。可采用通风和不通风两种方式,保证箱内微正压,保证污染物不能进入内箱;

3、可实现智能化生产要求。SECS / GEM是用于设备到主机数据通信的半导体设备接口协议。在自动化工厂中,接口可以启动和停止设备处理,收集测量数据,更改变量并为产品选择配方。

无尘烤箱